0
Avaliação 0/5 Estrelas
(0)

GIVENCHY SKIN RESSOURCE

Protective Moisturizing Rich Cream
Compartilhar produto
Pronto para o envio
Nº de artigo

Nossos Destaques

  • Entrega prevista com GLS Icon
    Entrega prevista com GLSquinta 06/11 até sábado 08/11
  • Devolução gratuita Icon
    Devolução gratuitaAté 180 dias
  • Envio gratuito Icon
    Envio gratuito
  • Tipos de pagamento Icon
    Tipos de pagamento
Amostras grátis Icon Escolha até 2 amostras grátis

Informação sobre o produto
designação
Protective Moisturizing Rich Cream
Linha
SKIN RESSOURCE
Supralinha
Cuidados com a pele
característica
calmante, estimulante, hidratante, nutritivo, perfumado, preenchedor
perfume
fresco
Consistência
Creme
Tipo de produto
Caixa, Frasco
Área de aplicação
Pescoço, Rosto
Efeito
alisante, luminoso
Acabamento
radiante
O Creme Rico Hidratante Protetor, rico e agradavelmente perfumado, funde-se na pele e proporciona-lhe uma hidratação intensiva e duradoura durante 72 horas*. A sua textura rica apazigua e nutre até a pele mais seca para um conforto sem limites. A pele fica apaziguada, generosamente preenchida e equilibrada. É visivelmente aliviada do stress e irradia uma luminosidade natural. *Teste instrumental efectuado em 11 voluntárias. A linha Skin Ressource da Maison Givenchy nutre a pele com o inovador Complexo Beauty Moss. A fórmula natural cria uma experiência de cuidado profundo e hidrata intensamente a pele.
Utilização
Aplicar no rosto de manhã e à noite, com movimentos suaves e exteriores.
Componentes
AQUA (WATER), GLYCERIN, SQUALANE, CAPRYLIC/CAPRIC TRIGLYCERIDE, PROPANEDIOL, BUTYLENE GLYCOL, JOJOBA ESTERS, DICAPRYLYL ETHER, ARACHIDYL ALCOHOL, POLYGLYCERIN-3, AMMONIUM ACRYLOYLDIMETHYLTAURATE/VP COPOLYMER, BEHENYL ALCOHOL, ISOMALT, ARACHIDYL GLUCOSIDE, CAPRYLYL GLYCOL, CELLULOSE, CETYL ALCOHOL, DIMETHICONE, PARFUM (FRAGRANCE), STEARYL ALCOHOL, BUTYROSPERMUM PARKII (SHEA) BUTTER, SILICA, SODIUM STEAROYL GLUTAMATE, CHLORPHENESIN, ACRYLATES/C10-30 ALKYL ACRYLATE CROSSPOLYMER, TOCOPHERYL ACETATE, SODIUM HYALURONATE, SODIUM HYDROXIDE, INOSITOL, GLUCOSE, TOCOPHEROL, HELICHRYSUM ITALICUM EXTRACT, PHYTOL, CITRIC ACID
Fabricante
LVMH
7 Av. Montaigne, FR-60000 Beauvais

Nossos clientes dizem sobre SKIN RESSOURCE

0,0
Avaliação 0/5 Estrelas
(0)
Avaliações dos clientes
* Contém avaliações das lojas internacionais parfumdreams. Não é verificada a veracidade das avaliações
parfumdreams
  • Facebook
  • Instagram
  • Tik Tok
  • Youtube
  • Pinterest
  • LinkedIn
Assine a newsletter e ganhe um cupom de 22%**
parfumdreams App
  • Parfumdreams auf Google Play
  • Parfumdreams im App Store
* Todos os preços incluem IVA, os custos de envio são {2}. Todas as informações sobre o envio estão ver aqui.
** Na nossa newsletter pessoal de boas-vindas encontram-se as exatas condições de desconto